真空蒸发镀膜法课件

1、10气相沉积技术,教学目的和要求,学习蒸发镀膜,溅射镀膜,离子镀膜,化学气相沉积等气相沉积技术的基本原理,主要特点,常见方法,技术种类,薄膜的形成过程等,重点掌握各种气相沉积技术的基本原理,主要特点,参考书,杨邦朝,王文生,薄膜物理与技术。

2、第三章真空蒸发镀膜,定义,真空蒸发镀膜,是将膜材加热汽化,实现镀膜的一种方法,是真空镀膜技术中发明最早,应用最广的,历史,电阻加热式蒸发镀膜已有百年历史教学重点,镀膜原理,条件,蒸发源,源的蒸发特性和膜厚分布计算,典型镀膜机,3,1真空蒸发。

3、第二章薄膜制备技术,2,4迪通恒业科技开发的外延制膜技术,2,3富森钛金设备开发的溶液镀膜技术,2,2薄膜的化学气相沉积,2,1薄膜的物理气相沉积,第一节薄膜的物理气相沉积,2,1,1引言,薄膜生长方法是获得薄膜的关键,薄膜材料的质量和性能。

4、第二章薄膜的物理制备工艺学,宋春元材料科学与工程学院,薄膜物理与技术,第二章薄膜的物理制备工艺学,2,1薄膜制备方法概述2,2真空蒸发镀膜2,3溅射镀膜2,4离子束镀膜2,5分子束外延技术2,6脉冲激光沉积技术,2,1薄膜制备方法概述,物理。

5、第三章薄膜制备技术,第三章薄膜制备技术,气相法,液相法,化学溶液镀膜法,化学镀,电镀,溶胶,凝胶,金属有机物分解,液相外延,水热法,喷雾热解,喷雾水解,膜及自组装,物理气相沉积,化学气相沉积,常压,低压,金属有机物,等离子体,光,热丝,真空。

6、真空镀膜调研,真空镀膜：在真空中把金属合金或化合物进行蒸发或溅射，使其沉积在被涂覆的物体称基片基板或基体上的方法。真空镀膜亦称干式镀膜，与传统的湿法镀膜相比具有如下特点：真空制备环境清洁，膜层不易受污染，致密性好纯度高膜厚均匀。膜与基体附着。

7、PVD镀膜工艺简介,1,2,二真空蒸发镀膜,一PVD的定义及分类,三真空溅射镀膜,四真空离子镀膜,3,一PVD的定义及分类,4,物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物。

8、第二章薄膜制备的物理方法,物理气相沉积,薄膜沉积的物理方法主要是物理气相沉积法,物理气相沉积,PhysicalVaporDeposition,简称PVD,是应用广泛的一系列薄膜制备方法的总称,包括真空蒸发法,溅射法,分子束外延法等,物理气相。

9、薄膜材料与技术,邹友生,郑伟涛等编著,薄膜材料与薄膜技术,化学工业出版社,材料科学与工程系,第四章薄膜制备的物理气相沉积方法,物理气相沉积基本过程真空蒸发镀膜脉冲激光沉积溅射镀膜离子镀和离子束沉积外延生长,技术是指在真空条件下,用物理的方法。

10、第二章真空蒸发镀膜法,2,1真空蒸发原理2,2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布2,3蒸发源的类型2,4合金及化合物的蒸发2,5膜厚和淀积速率的测量与监控,真空蒸发镀膜法,简称真空蒸镀,在真空室中,加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从。

11、第一节 真空蒸发镀膜原理,一定义：真空蒸发镀膜蒸镀是在真空条件下，加热蒸发物质使之气化并淀积在基片表面形成固体薄膜，是一种物理现象。 广泛地应用在机械电真空无线电光学原子能空间技术等领域。 加热方式可以多种多样。,1,PPT课件,二. 真空。

12、真空镀膜技术基础,真空技术,一,真空技术概况,巴德纯,二,真空工程理论基础,张世伟,三,干式真空泵原理与技术基础,巴德纯,四,真空系统组成与设计基础,刘坤,五,真空获得设备原理与技术基础,张以忱,六,真空测量技术基础,刘玉岱,七,真空镀膜技。

13、先进材料制备技术,化材学院李涓,研究生课程,LOGO,1薄膜材料的制备,1,1薄膜的形成机理1,2物理气相沉积1,3化学气相沉积1,4化学溶液镀膜法1,5液相外延制膜法1,6膜厚的测量与监控,先进材料制备技术,LOGO,1,1薄膜的形成机理。

14、龙海市角美开发区南北一路,真空镀膜知识培训,生产二部,一,真空的定义,真空指低于该地区大气压的稀薄气体状态,什么是真空,处于真空状态下的气体稀薄程度通常用,真空度高,和,真空度低,来表示,真空度高表示真空度,好,的意思,真空度低表示真空度。

15、主讲人,张以忱,真空镀膜技术基础,真空技术,一,真空技术概况,巴德纯,二,真空工程理论基础,张世伟,三,干式真空泵原理与技术基础,巴德纯,四,真空系统组成与设计基础,刘坤,五,真空获得设备原理与技术基础,张以忱,六,真空测量技术基础,刘玉岱。

16、第八章 薄膜材料的制备,主要内容：,薄膜材料基础薄膜的形成机理物理气相沉积化学气相沉积化学溶液镀膜法液相外延制膜法膜厚的测量与监控,1 薄膜材料基础,1. 薄膜材料的概念,采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质原材料的基团以物理或化学。

17、真空镀膜调研,真空镀膜：在真空中把金属合金或化合物进行蒸发或溅射，使其沉积在被涂覆的物体称基片基板或基体上的方法。真空镀膜亦称干式镀膜，与传统的湿法镀膜相比具有如下特点：真空制备环境清洁，膜层不易受污染，致密性好纯度高膜厚均匀。膜与基体附着。

18、第三章真空蒸发镀膜,Vacuumevaporativecoating,定义,真空蒸发镀膜,是将膜材加热汽化,实现镀膜的一种方法,是真空镀膜技术中发明最早,应用最广的,历史,电阻加热式蒸发镀膜已有百年历史教学重点,镀膜原理,条件,蒸发源,源的。

19、毕英慧,真空镀膜技术基础,2011.8.25,主 要 内 容,1 真空镀膜概论2 真空蒸发镀膜3 真空溅射镀膜4 真空离子镀膜,1.1 真空镀膜技术,真空镀膜技术 在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄膜材料，也可以。